瞄准尖端制程技术-东方晶源不断突破技术壁垒

计算光刻技术革新与反向光刻技术（ILT）在先进制程的应用及展望

一、引言

随着半导体技术的飞速发展，芯片制造已经进入精细化时代。
在这个时代，光刻技术作为芯片制造的核心环节之一，其重要性日益凸显。
尤其是计算光刻，作为现代光刻技术的重要组成部分，经历了从规则导向到模型驱动的转变。
随着制程技术的不断进步，尤其是当制程迈向7nm乃至5nm节点时，传统的方法已经难以满足复杂芯片设计的高要求。
在此背景下，反向光刻技术（ILT）以其独特的优化思路应运而生。

二、计算光刻与反向光刻技术（ILT）概述

计算光刻是光刻技术中的重要环节，其主要任务是通过计算机模型对光刻过程进行模拟和优化。
而反向光刻技术（ILT）则是从目标芯片图案出发，逆向推导获得最优化掩模图案的一种技术。
这种技术能够极大地提升优化的灵活性和精准度，更能满足先进制程对图形精度的苛刻需求。

三、ILT技术在先进制程中的重要性

在探索7nm及以下制程的征途中，ILT技术无疑将是提升制造良率的关键技术。
尤其在尖端光刻设备受限的国内环境下，其重要性更是不言而喻。
长期以来，由于技术难点如计算量大效率低，掩模复杂度高难于制造等，ILT技术尚未得到广泛应用。

四、东方晶源ILT解决方案的技术革新与优势

作为探索ILT技术的先驱之一，东方晶源凭借其创新的技术解决方案，率先实现了全芯片级别的基于ILT技术的掩模优化。其主要特点及优势体现在以下几个方面：

1. 独创的混合掩模优化方法：东方晶源ILT解决方案采用混合掩模优化方法，显著降低计算复杂度，提升整体计算效率。该方法在优化辅助曝光信号的同时考虑三维掩模效应，提供更为精准的掩模结果。
2. 人工智能技术的引入：东方晶源通过引入人工智能技术，解决了ILT所需运算时间长的弊端。其深度学习模型预测结果与ILT计算结果相似度高达95%，同时获得近十倍的提速。
3. 适应性广泛的掩模设计：东方晶源的ILT解决方案支持矩形图形、曼哈顿图形以及曲线图形的不同复杂度掩模设计，适应不同客户及应用场景需求。

五、东方晶源的计算光刻平台与ILT解决方案的应用

自2014年成立以来，东方晶源在计算光刻领域持续创新，构建了全面且领先的技术体系。
其计算光刻平台PanGen®已经形成八大产品矩阵，具备完整的计算光刻相关EDA工具链条，并已在国内各大Fab厂商广泛应用。
随着ILT解决方案的不断革新，其在效率和性能上的优势更加突显，必将在先进制程研发和应用中发挥重要作用。

六、展望

展望未来，东方晶源将继续坚持技术创新，针对半导体产业的发展和进步提供卓越的解决方案。
随着制程技术的不断进步和芯片设计复杂度的增加，计算光刻和ILT技术将发挥更加重要的作用。
我们期待东方晶源在技术创新和应用方面取得更大的突破，为我国半导体产业的发展和进步贡献更多的智慧和力量。

七、结论

反向光刻技术（ILT）是现代芯片制造中不可或缺的一环。
东方晶源凭借其创新的技术解决方案，已经在ILT技术领域取得了显著的进展。
随着其在效率和性能上的不断优化，我们相信ILT技术将在先进制程研发和应用中发挥越来越重要的作用。

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