重磅消息：美国计划投入巨额资金打造纽约州旗舰级EUV光刻研发站点

美国纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心设立首个《CHIPS法案》旗舰研发站点：推动EUV光刻技术的创新与发展

IT之家报道，随着全球化的步伐加速，科技产业逐渐占据经济发展的主导地位，其中半导体技术的进步与创新更是成为各国竞相争夺的焦点。
近日，美国商务部宣布一项重大举措，与美国国家半导体技术中心NSTC项目运营商Natcast联手，在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心建设首个《CHIPS法案》旗舰研发站点。
该站点的设立标志着美国在半导体技术研发领域的进一步布局，旨在引领全球半导体技术的新一轮革命。

一、《CHIPS法案》旗舰研发站点的设立背景与目标

在全球半导体市场竞争日趋激烈的背景下，美国商务部决定采取行动，以推动本国半导体产业的发展。
此次设立的旗舰研发站点名为“EUV加速器”，重点推进最先进的EUV光刻技术及其相关研发工作。
EUV光刻技术是半导体制造中的核心技术之一，其研发进展直接影响着半导体制造工艺的进步。

二、《CHIPS法案》旗舰研发站点的投资与支持

据了解，美国商务部与Natcast合作，对该研发站点提供了巨大的投资支持。
站点预计将获得高达8.25亿美元（约合58.75亿元人民币）的美国联邦投资支持。
这些资金将主要用于购买先进设备、引进技术人才、开展研究工作以及支持相关产业的发展。
预计该站点将于2025年开始运营。

三、EUV光刻机的引入与研发计划

在EUV加速器站点中，将陆续引入先进的EUV光刻机。
在2025年引入0.33NAEUV光刻机，随后在2026年引入HighNAEUV光刻机。
这些设备的引入将极大地提升站点的研发能力，推动EUV光刻技术的进一步突破。
站点还将开展与EUV光刻技术相关的研究工作，包括设备优化、工艺改进、材料研究等，以期取得更多创新成果。

四、合作与人才培养计划

EUV加速器站点不仅将促进与产业界、学术界和政府合作伙伴的合作，还将支持提供、培养和发展有才华的员工队伍的计划。
通过与产业界、学术界的紧密合作，站点将汇聚全球半导体领域的顶尖人才，共同推动半导体技术的创新。
同时，站点还将重视人才培养，为年轻人提供实习、培训、研究等机会，为半导体产业输送更多优秀人才。

五、其他研发设施的建设

除EUV光刻站点外，美国还计划建设原型制造和先进封装制造领域的研发设施。
这些设施的建设将进一步丰富美国在半导体产业链上的研发能力，提升美国在全球半导体产业中的竞争力。

六、总结

美国商务部在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心设立首个《CHIPS法案》旗舰研发站点，是美国在半导体技术研发领域的重大布局。
这一举措将推动EUV光刻技术的创新与发展，提升美国在全球半导体产业中的竞争力。
同时，通过与产业界、学术界的合作以及人才培养计划的实施，美国将汇聚全球顶尖人才，共同推动半导体技术的创新与发展。
作为全球最大的经济体之一，美国的这一举措将对全球半导体产业产生深远影响。

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